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掃描電鏡電子束誘導碳污染覆蓋樣品表面

掃描電鏡?腔體內(nèi)部殘留的有機碳氫化合物，在高能電子束照射下會發(fā)生分解沉積，在樣品觀察區(qū)域形成碳污染層，長期觀測會逐步遮擋樣品原始形貌。

掃描電鏡?依靠高能電子束掃描樣品表面采集二次電子信號，對于絕緣樣品，入射電子持續(xù)在表面積累，容易產(chǎn)生荷電效應(yīng)，是掃描電鏡成像過程中非常常見的成像缺陷，會直接干擾形貌觀測與尺寸測量。

無掩膜光刻機?讀取的版圖文件多為矢量格式，設(shè)備內(nèi)部需完成矢量向光柵點陣的轉(zhuǎn)換，才能驅(qū)動 DMD 生成曝光圖像，轉(zhuǎn)換過程參數(shù)設(shè)置不合理，會造成微納圖形畸變，降低微細結(jié)構(gòu)加工精度。

無掩膜光刻機?依托 DMD 數(shù)字微鏡陣列實現(xiàn)動態(tài)圖形曝光，無需實體掩膜版，可快速切換曝光版圖，但 DMD 微鏡長期持續(xù)工作會產(chǎn)生機械狀態(tài)殘留，引發(fā)像素殘影缺陷，直接影響微納圖形加工良率。

掃描電鏡?電子束持續(xù)轟擊低熱導率樣品時，會產(chǎn)生樣品熱損傷問題。

掃描電鏡?觀測帶有陡峭臺階結(jié)構(gòu)樣品時，容易出現(xiàn)邊緣增強假象。

無掩膜光刻機?在加工微小密集線條陣列時，會出現(xiàn)圖形各向異性偏差，平行與垂直方向的線條線寬不一致。

無掩膜光刻機?使用單色光源進行投影曝光時，容易在光刻膠層內(nèi)部產(chǎn)生駐波效應(yīng)，直接影響圖形輪廓質(zhì)量。