掃描電鏡圖像景深不足
掃描電鏡?觀測具有高低落差的樣品時，容易出現圖像景深不足問題。
MORE INFO → 常見問題 2026-10-14
掃描電鏡?觀測具有高低落差的樣品時，容易出現圖像景深不足問題。
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掃描電鏡?長時間連續采集圖像時，會出現二次電子信號衰減現象。
MORE INFO → 常見問題 2026-10-14
無掩膜光刻機?長時間連續曝光作業時，光源、運動平臺持續發熱，熱量傳導至基底，造成基底熱變形，直接引發多層結構套刻偏差。
MORE INFO → 行業動態 2026-10-14
無掩膜光刻機?采用 DMD 數字微鏡陣列進行圖形投影曝光，當照明光路出現偏差時，會出現曝光光斑均勻性不足的問題。
MORE INFO → 行業動態 2026-10-14
掃描電鏡?觀測多材質復合樣品、多層薄膜、粗糙基底時，常出現圖像襯度不均勻的現象，畫面呈現不規則明暗斑駁、局部忽亮忽暗，并非樣品真實結構。
MORE INFO → 常見問題 2026-10-12
掃描電鏡?在高倍率觀測立體結構、粗糙表面、多孔樣品、臺階結構時，極易出現景深不足的問題，表現為畫面局部清晰、前后區域模糊，凸起位置對焦正常，凹陷位置脫焦虛化，無法同時呈現樣品整體微觀細節，嚴重影響三維形貌觀測與微尺寸測量精度。
MORE INFO → 常見問題 2026-10-12
無掩膜光刻機?采用逐點掃描、像素拼接的直寫成像方式，在制備細線條、尖角、圓弧結構時，極易出現圖形邊緣臺階狀鋸齒、毛刺粗糙問題，直接增大線邊緣粗糙度，導致后續刻蝕、剝離工藝出現邊緣缺陷，是微納直寫加工中普遍的工藝問題。
MORE INFO → 行業動態 2026-10-12
無掩膜光刻機?依靠高精度光學聚焦系統，將數字圖形直接投影至光刻膠表面，實現微納結構直寫加工，焦點穩定性是保證線寬精度與圖形清晰度的核心。
MORE INFO → 行業動態 2026-10-12