無掩膜光刻機憑借圖形切換靈活、基底兼容性廣的特點，大量應用于 MEMS 傳感器件、微光學元件以及微流控器件的加工制造當中，適配多品種、中小批量的生產加工模式。

MEMS 傳感器件內部包含大量微型溝槽、空腔、可動微型結構，產品規格迭代頻繁，不同型號傳感器的圖形結構差異較大。借助無掩膜直寫曝光能力，可以完成壓力傳感、慣性器件內部微結構的光刻成型，不用反復制作掩模版就可以快速輸出不同版本的樣品，完成結構性能對比，有效縮短產品迭代周期，也能夠承接定制規格器件的批量加工任務。

微光學器件領域，設備可以加工光柵、光波導、菲涅爾透鏡等精密微結構，部分機型支持灰度曝光功能，能夠直接生成連續漸變的三維形貌結構，省去多步套刻的繁瑣工序，適配玻璃、石英等透光基底的加工需求，服務光通信、激光雷達相關光學元件的生產制造。

在微流控器件加工場景，設備用來制備各類微通道、反應腔陣列圖形，通道尺寸可以靈活調整，滿足不同流體控制結構的加工需要，可在各類高分子薄片以及硬質基底上完成曝光，支撐各類微流體器件的成型制作。整套加工流程依靠數字版圖驅動，產品改型只需要更新設計文件，非常適合品類繁多的定制化微納器件生產。