電子束光刻機使用絕緣類基底開展電子束直寫曝光時，容易出現圖形位置偏移、邊緣扭曲、局部線條斷裂，同一寫場內不同區域畸變程度不一致，套刻對位標記識別失效，無法完成大面積連續圖形加工。該故障僅在絕緣基材加工場景高頻出現，更換導電基底后異常現象明顯減輕，不同設備的電荷中和模塊性能存在差異，故障表現輕重各不相同。

電子束持續轟擊絕緣樣品表面，電荷無法快速導出會不斷發生累積，在樣品表層形成局部靜電場，靜電場會偏轉后續入射電子束的運行軌跡，導致電子束落點偏離預設坐標，輸出變形的微納圖形。樣品表面導電層鍍層厚度不均勻、導電層存在局部破損，會造成電荷泄放通道局部失效，形成區域性畸變。電荷中和裝置參數調試不到位、中和粒子束流量不匹配曝光束流大小，不能夠有效抵消表面積累的多余電荷。另外曝光掃描順序不合理，局部區域連續大劑量曝光，短時間大量電荷堆積，也會加重圖形扭曲偏移的現象。環境溫濕度波動改變樣品表面微弱的導電能力，同樣會對充電效應帶來間接影響。