電子束光刻機曝光不均勻通常表現為圖形深淺不一致、線寬變化或局部曝光不足/過度。這類問題一般與束流穩定性、掃描系統和工藝參數有關，需要從設備狀態和曝光條件兩方面進行排查。不同設備在電子槍類型、掃描方式和劑量控制精度上存在差異，因此調整方法也要結合具體參數。

首先要檢查束流穩定性。如果電子槍發射不穩定或束流漂移，會直接導致曝光劑量在不同區域發生變化?？梢酝ㄟ^重新校準束流、穩定發射電流以及充分預熱設備來改善這一問題。

其次關注掃描系統與寫入參數。掃描步進設置不合理、掃描重疊不足或寫入速度變化，都會造成局部曝光不均。適當優化掃描間距和寫入策略，使相鄰掃描區域有合理重疊，可以明顯改善均勻性。同時避免過快掃描帶來的劑量不足問題。

在工藝方面，曝光劑量設置非常關鍵。劑量過低會導致顯影不足，而劑量過高會引起擴散和鄰近效應增強，從而出現不均勻。通常需要通過劑量測試找到合適的曝光窗口，并在此基礎上進行微調。

樣品因素也不可忽視。如果基底導電性不好或存在充電效應，會導致電子束偏轉，造成局部曝光異常。這種情況下可以增加導電層或改善接地條件。此外，光刻膠厚度不均或旋涂不穩定，也會導致顯影后表現為曝光不均。

另外，鄰近效應是電子束光刻中常見的問題。高密度區域由于電子散射會獲得額外劑量，而孤立區域劑量較低，從而產生不均勻?？梢酝ㄟ^鄰近效應修正（PEC）來補償不同區域的曝光劑量，使整體更加均勻。