電子束光刻機(jī)的掃描方式取決于設(shè)備架構(gòu)和控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)。常見掃描方式主要包括以下幾類。

首先，矢量掃描。

電子束只在需要曝光的圖形區(qū)域移動(dòng)，不掃描空白區(qū)域，適合線條、納米結(jié)構(gòu)等稀疏圖形。優(yōu)點(diǎn)是效率高、劑量控制精確，是科研型電子束光刻中常見方式。

第二，柵格掃描。

類似掃描電鏡成像方式，電子束按行逐點(diǎn)掃描整個(gè)曝光區(qū)域，通過控制每個(gè)像素的開關(guān)或劑量實(shí)現(xiàn)圖形寫入。適合灰度曝光或復(fù)雜面陣圖形，但效率相對較低。

第三，步進(jìn)場掃描。

將大面積圖形劃分為多個(gè)小寫入場（field），在一個(gè)場內(nèi)完成掃描后，樣品臺(tái)移動(dòng)到下一個(gè)位置繼續(xù)寫入。這種方式解決了偏轉(zhuǎn)線圈掃描范圍有限的問題，關(guān)鍵指標(biāo)是場拼接精度。

第四，連續(xù)掃描與分段掃描。

部分系統(tǒng)支持連續(xù)路徑掃描（適合長線結(jié)構(gòu)），也可采用分段塊狀寫入以提高大面積填充效率。

第五，多束掃描。

新一代系統(tǒng)采用多電子束并行寫入，大幅提高寫入速度，主要面向掩膜版或高產(chǎn)能需求場景。

第六，灰度劑量調(diào)制掃描。

通過改變束流停留時(shí)間或重復(fù)曝光次數(shù)，實(shí)現(xiàn)不同劑量分布，用于三維納米結(jié)構(gòu)加工。