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澤攸科技DMD無掩膜光刻機助力高性能二維材料器件的研發(fā)

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近年來，二維(2D)層狀晶體及其異質(zhì)結(jié)構(gòu)由于其電學(xué)、光學(xué)和機械性能而受到了廣泛關(guān)......

澤攸科技無掩膜光刻機在PtTe2/WS2/金字塔狀Si異質(zhì)結(jié)構(gòu)制備中的應(yīng)用

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在當(dāng)今的光電探測器領(lǐng)域，二維(2D)材料因其獨特的物理和化學(xué)性質(zhì)而備受關(guān)注。...

澤攸科技無掩膜光刻機在MEMS壓力傳感器制造中的應(yīng)用

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在當(dāng)今的科技快速發(fā)展時代，微電子機械系統(tǒng)（MEMS）技術(shù)已成為推動現(xiàn)代傳感器技術(shù)......